[发明专利]阵列基板及其制备方法

摘要

本申请提供一种阵列基板及其制备方法，阵列基板包括基板、遮光层、蚀刻阻挡层、缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、层间介质层和源漏极层，遮光层设置于基板上，蚀刻阻挡层设置于遮光层上，缓冲层覆盖于基板、遮光层及蚀刻阻挡层上，有源层、栅极绝缘层和栅极层依次设置于缓冲层上，层间介质层覆盖于缓冲层、有源层、栅极绝缘层及栅极层上，层间介质层具有第一通孔、第二通孔及第三通孔，源漏极层设置于层间介质层上，源漏极层经处理形成源极和漏极，源极和漏极位于通孔中和层间介质层上。在本申请中，通孔一次蚀刻完成，且不蚀刻所述蚀刻阻挡层，提升了阵列基板的生产效率和产品品质，并减少了生产成本。