[发明专利]基于垂直薄膜晶体管的存储器单元在审

专利信息
申请号: 201911118177.0 申请日: 2019-11-15
公开(公告)号: CN111326514A 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: J.G.阿尔扎特维纳斯科;A.A.沙尔马;F.哈姆扎奥卢;B.塞尔;王珮华;V.H.勒;J.T.卡瓦列罗斯;T.加尼;古杰仁;T.W.拉茹瓦;U.阿尔斯兰 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/108 分类号: H01L27/108;H01L21/8242
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜冰;杨美灵
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本文的实施例描述了一种用于半导体装置的技术,所述半导体装置包括沿水平方向定向的衬底,以及在衬底上方包括晶体管和电容器的存储器单元。所述晶体管包括沿大体上正交于所述水平方向的垂直方向定向的栅极电极,以及沿所述垂直方向定向的、围绕所述栅极电极并通过栅极电介质层而与所述栅极电极分离的沟道层。所述电容器在所述衬底上方的层间电介质层内。所述电容器包括与所述晶体管的所述沟道层的第二部分耦合的第一极板,以及通过电容器电介质层而与所述第一极板分离的第二极板。电容器的第一极板也是所述晶体管的源极电极。可以描述和/或要求保护其它实施例。
搜索关键词: 基于 垂直 薄膜晶体管 存储器 单元
【主权项】:
暂无信息
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