[发明专利]一种连续电化学沉积制备金属颗粒的方法有效
申请号: | 201911117064.9 | 申请日: | 2019-11-15 |
公开(公告)号: | CN110760892B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 伍晖;黄雅;杨程 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | C25C5/02 | 分类号: | C25C5/02;C25C7/08;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京德和衡律师事务所 11405 | 代理人: | 樊培伟 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种连续电化学沉积制备金属颗粒的方法,该方法的主要步骤包括:首先通过控制电沉积参数,在可移动基板上电沉积分散均匀的金属颗粒;然后可移动基底携带电沉积金属颗粒,对基板及上面材料进行清洁或者表面处理;最后利用物理剥离等方法将基底表面的颗粒剥离,并将颗粒分散在溶液中收集。本发明的优点在于:利用电沉积电子还原的办法制备了粒径均匀、分散均匀、表面无活性剂的金属颗粒,并且颗粒与基底接触力小可以采用简单的物理剥离收集颗粒,整个合成过程粒径大小可控,电解液可以重复利用,成本与传统合成金属颗粒方法相比,价格低廉,大小可控。 | ||
搜索关键词: | 一种 连续 电化学 沉积 制备 金属 颗粒 方法 | ||
【主权项】:
1.一种通过控制阴极基板速度连续电沉积制备金属颗粒的方法,其特征在于,所制备的金属颗粒与阴极基板之间的接触力小于25nN,或者剪切强度小于1MPa,所述制备方法包括:/n(1)配制电解液;/n(2)选择能够连续移动的阴极基板,阴极基板表面经抛光处理;/n(3)调节电化学沉积参数,进行恒流或者恒压模式电沉积,恒流模式过程中电流密度范围为0~10mA/cm
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