[发明专利]激光状态方程实验用阻抗匹配靶的聚焦离子束制备方法在审
| 申请号： | 201911103825.5 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN110846633A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 路超;张厚亮;张德志;孟宪东;廖益传;史鹏 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院材料研究所 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;G09B23/06 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人： | 孙杰 |
| 地址： | 621700 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了激光状态方程实验用阻抗匹配靶的聚焦离子束制备方法，包括以下步骤：通过减薄方法将待测材料制备得到微米厚度的靶材料薄膜；利用聚焦离子束将所述靶材料薄膜切割成靶片；使用聚焦离子束配套的机械手将靶片转移到准备好的标准材料台阶上并精确对准；使用聚焦离子束辅助的薄膜沉积方法进行靶片的装配；对所述靶片和微靶进行尺寸检测后完成阻抗匹配靶的制备。本发明通过这种基于聚焦离子束的新型制靶方法可有效解决传统靶制备工艺中存在的问题，实现阻抗匹配靶加工精度的显著提升，明显提高微靶的制备成品率，降低劳动强度及高活性材料靶的氧化程度，使检测数据可靠性得到提高，在精度提升的基础上还可进行高精复杂靶型的微靶制备。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 状态方程 实验 阻抗匹配 聚焦 离子束 制备 方法 | ||
【主权项】：
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