[发明专利]抛光垫及化学机械抛光设备有效
| 申请号： | 201911100422.5 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN110802508B | 公开（公告）日： | 2021-08-24 |
| 发明（设计）人： | 蒲以松;惠聪;阴俊沛 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;刘伟 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种抛光垫及化学机械抛光设备，属于半导体技术领域。抛光垫，包括衬底层和位于所述衬底层上的抛光层，所述抛光层包括多个沿周向设置、同圆心的周向沟槽，以及多个沿径向设置、连通相邻周向沟槽的径向沟槽。本发明能够提高抛光液的利用率、抛光垫的使用寿命和抛光质量。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 化学 机械抛光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司，未经西安奕斯伟硅片技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911100422.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种超声波成像设备
- 下一篇：一种3D打印装置与方法
