[发明专利]光谱分析系统及光谱分析设备在审

专利信息
申请号: 201911071373.7 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN110836866A 公开(公告)日: 2020-02-25
发明(设计)人: 杨晓杰;杨国文;李靖;赵卫东 申请(专利权)人: 度亘激光技术(苏州)有限公司
主分类号: G01N21/39 分类号: G01N21/39;G01N21/01
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 张琳琳
地址: 215125 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及光谱分析技术领域,具体涉及光谱分析系统及光谱分析设备,该系统设置在预设电路板上,包括:激光光源组件,具有用于向目标物体发射激光光束的半导体激光器芯片;半导体激光器芯片为半导体激光器阵列;探测组件,用于接收激光光束照射目标物体后反射或透射的光束,并将接收到的光束转换为光生电流或电压信号发送给光谱分析处理器;光谱分析处理器,基于光生电流或电压信号对所述目标物体进行分析。将激光光源组件、探测组件以及光谱分析处理器集成在一个系统中,减小光谱分析系统的体积;采用半导体激光器芯片作为光源,具备超短脉冲激光发射和探测功能,既能分析目标物体的化学组分也能实现成像,精确定位某一位置的成分信息。
搜索关键词: 光谱分析 系统 设备
【主权项】:
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