[发明专利]一种测量光学带隙的方法和系统在审
| 申请号： | 201911018525.7 | 申请日： | 2019-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN110687052A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 温晓镭 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01N21/21 | 分类号： | G01N21/21;G01N21/31;G16C60/00;G06F30/20 |
| 代理公司： | 11227 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨华 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种测量光学带隙的方法和系统，包括采用椭偏仪对待测样品进行测量获得椭偏数据测量值；对椭偏数据进行建模及拟合计算，判断拟合计算得到的拟合值是否接近测量值，若是，利用拟合所得色散方程参数反推计算，获得待测样品的折射率和消光系数随波长变化的色散曲线；根据色散曲线以及吸收系数公式获得待测样品的吸收系数；根据吸收系数和Tauc公式求出待测样品的光学带隙。由于椭偏仪具有测量精度高、对衬底材料透明度没有要求的特点，因此，不仅能够精确地实现光学带隙的测量，而且能够极大地拓展光学带隙测量的适用范围，尤其针对不透明衬底或单面抛光衬底上的薄膜材料、不透明材料、多层或复杂膜结构材料等具有良好的测量效果。 | ||
| 搜索关键词： | 待测样品 吸收系数 光学带隙 色散曲线 椭偏仪 衬底 拟合 测量 光学带隙测量 不透明材料 测量精度高 薄膜材料 波长变化 测量光学 测量效果 衬底材料 单面抛光 接近测量 拟合计算 色散方程 数据测量 消光系数 不透明 膜结构 折射率 带隙 多层 反推 建模 透明度 拓展 | ||
【主权项】：
1.一种测量光学带隙的方法，其特征在于，包括：/n采用椭偏仪对待测样品进行光学测量，获得椭偏数据测量值；/n对椭偏数据进行建模及拟合计算，判断拟合计算得到的椭偏数据拟合值是否接近所述椭偏数据测量值，若是，利用拟合所得色散方程参数反推计算，获得所述待测样品的折射率和消光系数随波长变化的色散曲线；/n根据所述色散曲线以及吸收系数公式获得所述待测样品的吸收系数；/n根据所述吸收系数和Tauc公式求出所述待测样品的光学带隙。/n
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