[发明专利]一种大规模阵列天线散射的快速分析方法有效
| 申请号: | 201910982944.6 | 申请日: | 2019-10-16 |
| 公开(公告)号: | CN110737873B | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
| 发明(设计)人: | 陈益凯;周文阳;杨仕文 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
| 主分类号: | G06F17/16 | 分类号: | G06F17/16;G01S13/02 |
| 代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 | 代理人: | 张秀敏 |
| 地址: | 610000 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | 本发明属于天线电磁计算领域,具体涉及一种大规模阵列天线散射的快速分析方法,该方法包括:对金属介质复合体单元进行特征模分析;将单元的特征流作为子全域基函数对整个金属介质复合体阵列上的等效表面流进行展开;根据阵列阻抗矩阵的周期性和对称性忽略大量的计算,效率地得到基于特征模电流展开的维度缩减的阻抗矩阵;用直接求逆法对其矩阵方程进行求解,最终求得散射结果。本发明解决了现有方法在计算大规模阵列时对计算存储量和计算时间的高需求问题,适用于更常用的任意金属介质复合体所组成的阵列情况;利用缩减后阻抗矩阵本身的对称性和周期性,忽略阻抗矩阵填充时的大部分运算,减少了阻抗矩阵填充所需时间,计算速度快。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 大规模 阵列 天线 散射 快速 分析 方法 | ||
【主权项】:
1.一种大规模阵列天线散射的快速分析方法,其特征在于:该快速分析方法包括以下步骤:/n步骤1:获取分析金属介质复合体单元的基本数据,根据任意金属介质复合体的特征模理论,得到单元的三组特征流系数向量矩阵([J
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