[发明专利]一种耐候阻隔聚酯薄膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910975309.5 申请日: 2019-10-14
公开(公告)号: CN110712412A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 周通;王钦;高青;鲍时萍;程龙宝;宋瑞然;杜坤 申请(专利权)人: 合肥乐凯科技产业有限公司
主分类号: B32B27/36 分类号: B32B27/36;B32B27/06;B32B3/08;B29C48/08;B29C48/21;B29C48/92;B29C55/14
代理公司: 13108 石家庄冀科专利商标事务所有限公司 代理人: 李羡民;高锡明
地址: 230041 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种耐候阻隔聚酯薄膜及其制造方法。耐候阻隔聚酯薄膜的阻隔层两侧叠有耐候层,耐候层和阻隔层所用原料为芳香族聚酯,耐候层所用芳香族聚酯的末端羧基含量为10mol/t以下;阻隔层含有经过硫酸氧化处理的片状石墨烯,片状石墨烯的平均厚度为1.0~5.0nm,片层直径1.0~10.0μm,片状石墨烯的质量占阻隔层总质量的0.1%~10%。所述耐候阻隔聚酯薄膜具有优异的耐候性和阻隔性。
搜索关键词: 聚酯薄膜 阻隔层 片状石墨 耐候层 阻隔 芳香族聚酯 末端羧基 氧化处理 耐候性 阻隔性 片层 硫酸 制造
【主权项】:
1.一种耐候阻隔聚酯薄膜,其特征在于,所述耐候阻隔聚酯薄膜的阻隔层的两侧叠有耐候层,所述耐候阻隔聚酯薄膜满足下述条件:/n(1)阻隔层含有片状石墨烯,所述片状石墨烯为经过硫酸氧化处理的氧化石墨烯;/n(2)阻隔层片状石墨烯的平均厚度为1.0~5.0nm;/n(3)阻隔层片状石墨烯的片层直径1.0~10.0μm。/n
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