[发明专利]用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统在审
| 申请号： | 201910938104.X | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN110596743A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 张森;兰涛;毛文哲 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29;G01T1/34;G01K11/20;G21B1/23 |
| 代理公司： | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤宝平 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统，包括：探测器和高速可见光相机；其中，所述探测器包括：探测器腔体；小孔，设于所述探测器腔体的第一端部；薄膜，设于所述小孔上；微通道板MCP，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述小孔；荧光屏，被置于所述探测器腔体内，并且面对所述微通道板MCP；成像时，软X射线穿透所述小孔，透过所述薄膜，照射在所述微通道板MCP上，软X射线经过所述微通道板MCP后到达所述荧光屏上，所述荧光屏上的可见光射出所述探测器腔体，而后聚焦到所述高速可见光相机上。本发明提高了X射线探测成像的速度，并且可获得软X射线的辐射剖面和温度信息。 | ||
| 搜索关键词： | 探测器 微通道板 软X射线 小孔 荧光屏 腔体 可见光相机 薄膜 成像 体内 磁约束聚变装置 高速成像系统 可见光 第一端部 温度信息 射出 双膜 荧光 穿透 照射 聚焦 辐射 | ||
【主权项】：
1.一种用于磁约束聚变装置中的双膜软X射线荧光高速成像系统，其特征在于，包括：探测器和高速可见光相机(13)；其中，所述探测器包括：/n探测器腔体(10)；/n小孔(2)，设于所述探测器腔体(10)的第一端部；/n薄膜(3)，设于所述小孔(2)上；/n微通道板MCP(4)，被置于所述探测器腔体(10)内，并且面对所述小孔(2)；/n荧光屏(5)，被置于所述探测器腔体(10)内，并且面对所述微通道板MCP(4)；/n成像时，软X射线穿透所述小孔(2)，透过所述薄膜(3)，照射在所述微通道板MCP(4)上，软X射线经过所述微通道板MCP(4)后到达所述荧光屏(5)上，所述荧光屏(5)上的可见光射出所述探测器腔体(10)，而后聚焦到所述高速可见光相机(13)上。/n
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