[发明专利]一种光催化二氧化钛/氧化钨复合薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201910932689.4 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110560044A | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 朱陆军 | 申请（专利权）人： | 陕西师范大学 |
| 主分类号： | B01J23/30 | 分类号： | B01J23/30;B01J35/02;B01J37/34;C02F1/30;C02F1/32;C02F101/38 |
| 代理公司： | 61201 西安永生专利代理有限责任公司 | 代理人： | 高雪霞 |
| 地址： | 710062 *** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光催化二氧化钛/氧化钨复合薄膜的制备方法。通过控制电解质组成和电学参数输入，利用高压阳极氧化中氧化膜/电解液界面电双层中的强电场驱动，在数秒到数十秒短的时间内，在钛或钛合金表面生长出厚度在100nm至数微米厚、彩色、高活性的二氧化钛/氧化钨复合薄膜。在紫外‑可见光辐照下，所制备的复合薄膜可以在30分钟内降解掉95％以上的有色有机污染物甲基橙。与现有技术相比，本发明不仅制备工艺简单、膜生长快速、环保无污染，且所制备的薄膜具有富含氧空位、高光催化活性、色彩可调等优势，可赋予钛合金自清洁和装饰的能力，有助于拓展钛合金在汽车工业、建筑工业和海洋行业等方面的应用。 | ||
| 搜索关键词： | 复合薄膜 钛合金 制备 氧化钨 光催化二氧化钛 高光催化活性 电解液界面 电解质组成 可见光辐照 有机污染物 表面生长 电学参数 二氧化钛 高压阳极 建筑工业 制备工艺 电双层 高活性 甲基橙 膜生长 强电场 氧化膜 氧空位 自清洁 富含 降解 可调 薄膜 汽车工业 驱动 海洋 拓展 赋予 环保 应用 | ||
【主权项】：
1.一种光催化二氧化钛/氧化钨复合薄膜的制备方法，其特征在于所述方法由下述步骤组成：/n(1)将硅钨酸以1.00～10.00g/L的浓度溶于水中，得到电解液；或者将钨酸钠和氢氧化钾分别以1.15～10.00g/L、2.50～8.00g/L的浓度溶于水中，得到电解液；/n(2)将钛或钛合金表面清洗干净，然后放入步骤(1)的电解液中作为阳极，以不锈钢或者铜片作为阴极，连接恒流电源进行高压阳极氧化处理，高压阳极氧化处理的电学参数为：电流密度为1～15A/dm
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