[发明专利]曝光方法及使用该曝光方法制造显示装置的方法在审
| 申请号： | 201910921483.1 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110989298A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 尹锡圭;永井新一郎 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;刘铮 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请涉及曝光方法和制造显示装置的方法。用于步进式移动矩形掩模和衬底的相对位置的曝光方法包括：第一投影曝光，其中，掩模位于衬底的第一区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第一投影部；第二投影曝光，其中，掩模位于衬底的第二区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第二投影部；以及第三投影曝光，其中，掩模位于衬底的第三区域上，检测掩模的一侧上的两个点的坐标，使用该坐标对齐掩模，并随后曝光第三投影部。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 方法 使用 制造 显示装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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