[发明专利]一种SiC纳米线及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201910903443.4 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN110589832A 公开(公告)日: 2019-12-20
发明(设计)人: 唐永炳;徐阳;王陶;蔡菁华 申请(专利权)人: 中国科学院深圳先进技术研究院
主分类号: C01B32/977 分类号: C01B32/977
代理公司: 44414 深圳中一联合知识产权代理有限公司 代理人: 黄志云
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种SiC纳米线的制备方法,所述SiC纳米线采用热丝化学气相沉积法制备获得,所述热丝化学气相沉积法的具体方法包括如下步骤:提供一基底,对所述基底进行表面清洗、干燥;将处理得到的基底放置于热丝化学气相沉积设备沉积室内;通入含有碳源气体、硅源气体的混合气体,保持所述基底与所述设备内部的灯丝的距离为16~18mm,在所述灯丝的功率为6800~7000W、所述灯丝的温度为600~800℃的条件下;制备所述SiC纳米线。该制备方法工艺简单,生产成本低,速率高;制备得到的SiC纳米线长度粗细可较准确控制,且均一稳定,纯度较高。
搜索关键词: 基底 灯丝 制备 热丝化学气相沉积 热丝化学气相沉积法 制备方法工艺 生产成本低 表面清洗 长度粗细 硅源气体 混合气体 设备内部 碳源气体 准确控制 均一 沉积 室内
【主权项】:
1.一种SiC纳米线的制备方法,其特征在于,所述SiC纳米线采用热丝化学气相沉积法制备获得,所述热丝化学气相沉积法的具体方法包括如下步骤:/n提供一基底,对所述基底进行表面清洗、干燥;/n将处理得到的基底放置于热丝化学气相沉积设备沉积室内;通入含有碳源气体、硅源气体的混合气体,保持所述基底与所述设备内部的灯丝的距离为16~18mm,在所述灯丝的功率为6800~7000W、所述灯丝的温度为600~800℃的条件下;制备所述SiC纳米线。/n
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