[发明专利]一种掩膜板张网控制方法及装置、张网系统有效
| 申请号： | 201910895062.6 | 申请日： | 2019-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN110484863B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 杜森;吴建鹏;张元其;嵇凤丽;徐倩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 周娟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开一种掩膜板张网控制方法及装置、张网系统，涉及显示技术领域，以控制掩膜板张网过程，从而降低图案化基板所具有的各个像素区出现缺失和混色的可能性。所述控制方法包括获取像素开口区的实测位置信息；根据像素开口区的实测位置信息和像素区预设位置信息获得像素开口区实测偏移量R；在其大于不混色像素对应的像素开口区理论偏移量R |
||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板张网 控制 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板张网控制方法，其特征在于，包括：/n获取掩膜板所具有的像素开口区的实测位置信息；/n根据所述像素开口区的实测位置信息和像素区预设位置信息，获得像素开口区实测偏移量R；/n在所述像素开口区实测偏移量R大于不混色像素对应的像素开口区理论偏移量R0时，判断像素开口区实测几何中心是否位于不混色像素对应的像素开口区几何中心拟合图案所围成的区域；/n如果是，生成结束掩膜板张网控制过程的结束指令；否则，生成用于启动张网参数调节过程的调节指令。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910895062.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
