[发明专利]一种碱性抛光后低k介质清洗剂及其清洗方法在审
| 申请号： | 201910863465.2 | 申请日： | 2019-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN110484380A | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 高宝红;牛新环;王辰伟;何彦刚;刘玉岭 | 申请（专利权）人： | 河北工业大学 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/04;C11D3/30;C11D11/00;H01L21/02 |
| 代理公司： | 12210 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 赵凤英<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 300130 天津市红桥区*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明为一种碱性抛光后低k介质清洗剂及其清洗方法。所述的清洗剂其组成包括非离子表面活性剂、pH调节剂和去离子水，其中，非离子表面活性剂质量是去离子水的质量的1％‑4％；清洗剂的pH值为9‑10。所述的非离子表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚非离子活性剂O‑20、AEO‑9或AEO‑15，pH调节剂为氨水或四乙基氢氧化铵。清洗方法中，通过洗刷参数的设置，以及加热烘干、CVD处理步骤的增加，本发明可以对低k介质材料进行保护，改善刷子使用寿命，并能对低k材料结构破坏部分修复，实现k值的恢复。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗剂 非离子表面活性剂 去离子水 清洗 脂肪醇聚氧乙烯醚 四乙基氢氧化铵 氨水 刷子 非离子活性剂 低k介质材料 加热烘干 碱性抛光 结构破坏 使用寿命 低k材料 低k介质 洗刷 修复 恢复 | ||
【主权项】：
1.一种碱性抛光后低k介质清洗剂，其特征为所述的清洗剂其组成包括非离子表面活性剂、pH调节剂和去离子水，其中，非离子表面活性剂质量是去离子水的质量的1％-4％；清洗剂的pH值为9-10。/n
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