[发明专利]一种半导体处理设备及其排气系统在审
| 申请号： | 201910852668.1 | 申请日： | 2019-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN112563106A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡楚洋;左涛涛;吴狄 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/458;C23C16/54 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;周乃鑫 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种半导体处理设备及其排气系统，通过在排气系统的调节阀上方增设涡轮叶片来阻挡并抵消倒灌气流，从而有效地抑制由涡轮泵倒灌的颗粒物进入半导体处理设备中的真空反应腔，防止真空反应腔受到污染，同时防止排气速度降低，延长了半导体处理设备的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 处理 设备 及其 排气 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中微半导体设备（上海）股份有限公司，未经中微半导体设备（上海）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910852668.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：金属锂电池健康程度的检测装置及方法
- 下一篇：车辆稳定控制方法及系统
