[发明专利]清洁构件、其制造方法及图像形成装置在审
| 申请号: | 201910846870.3 | 申请日: | 2019-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN110888312A | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
| 发明(设计)人: | 雨宫泰树;细谷幸夫;小仓都宏 | 申请(专利权)人: | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;B41J29/17;C08G18/83 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 杨薇 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明课题在于提供磨耗得到了降低的清洁构件。另外,在于提供该清洁构件的制造方法及具有该清洁构件的图像形成装置。为了解决该课题,本发明的清洁构件含有聚氨酯橡胶,上述聚氨酯橡胶具有直接键合有氟原子的环状结构部。 | ||
| 搜索关键词: | 清洁 构件 制造 方法 图像 形成 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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