[发明专利]一种具有夹芯层结构的聚晶立方氮化硼复合片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910836880.9 申请日: 2019-09-05
公开(公告)号: CN110565049B 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 张涛;卢灿华;朱培;王军颢;王卫康 申请(专利权)人: 中南钻石有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/48;B22F3/02;B22F3/10;B22F3/15;C22C29/08;B22F1/00;C22C47/14;C22C49/02;C22C49/14;B22F7/04
代理公司: 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 代理人: 张丽
地址: 473264 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 发明属于复合刀具材料技术领域,具体涉及一种具有夹芯层结构的聚晶立方氮化硼复合片及其制备方法。所述具有夹芯层结构的聚晶立方氮化硼复合片的制备方法,包括以下步骤:1)沉积过渡层、2)离子注入立方氮化硼表面、3)混合、4)复合体组装、5)复合体真空处理、6)高温高压烧结。本发明由传统复合片的上下两层结构变为具有夹芯层的三层结构,解决传统聚晶立方氮化硼复合片韧性不够,使用中易出现崩裂的问题;采用离子注入技术,弥补普通立方氮化硼颗粒表面存在结构缺陷以及性能相容性,解决普通聚晶立方氮化硼复合片使用寿命和效率不高的问题。
搜索关键词: 一种 具有 夹芯层 结构 立方 氮化 复合 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有夹芯层结构的聚晶立方氮化硼复合片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:/n1)沉积过渡层:在净化后的硬质合金基体表面上依次沉积氮化铬层和碳化钽层作为过渡层,得到含过渡层的硬质合金基体;/n2)离子注入立方氮化硼表面:向立方氮化硼微粉表面依次注入氮离子和硼离子,得到含氮离子和硼离子的立方氮化硼微粉;/n3)混料:步骤2)的含氮离子和硼离子的立方氮化硼微粉与结合剂按重量百分比50~90%/n和10~50%进行称量,混合,得到立方氮化硼混合粉体;/n4)复合体组装:先将步骤1)的部分含过渡层的硬质合金基体放入金属杯内,过渡层朝上,然后倒入步骤3)的立方氮化硼混合粉体并辅平,再将剩余的含过渡涂层的硬质合金基体放入金属杯中,过渡层朝下,经由模具进行预压成型,得到具有立方氮化硼夹芯层的复合体组件;/n5)复合体真空处理:将步骤4)的复合体组件置于真空烧结炉内,进行抽真空还原净化处理,得到净化后的复合体组件;/n6)高温高压烧结:将步骤5)净化后的复合体组件置于合成组装块内,用六面顶压机进行高温高压烧结,制备出具有夹芯层结构的聚晶立方氮化硼复合片。/n
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