[发明专利]纳米压印模板及制作方法在审
| 申请号： | 201910821655.8 | 申请日： | 2019-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN110456611A | 公开（公告）日： | 2019-11-15 |
| 发明（设计）人： | 徐乃涛;孙其梁;程进;李宋泽 | 申请（专利权）人： | 无锡微视传感科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 32291 江苏漫修律师事务所 | 代理人： | 平梁良<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 214000江苏省无锡市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印模板，包括衬底，衬底表面具有压印膜层，压印膜层被加工形成纳米压印图形。本发明通过在衬底材料上沉积一层或多层薄膜介质层，并通过光刻以及刻蚀工艺在介质层内形成所需纳米压印结构，压印模板不同位置、不同图形的结构深度等于介质层的厚度，而薄膜沉积的厚度均匀性优于直接刻蚀硅片的深度均匀性，从而获得深度均匀性更好的高精度压印模板。本发明在制作压印模板的过程中，不需要刻蚀硅片，不会对硅片造成损伤，一旦发现工艺异常或者测量得到的纳米图形的数据超规范，精度不达标，可方便的去除衬底表面的膜层进行返工，从而避免昂贵的硅片报废，降低生产成本，并提高良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 压印模板 介质层 深度均匀性 衬底表面 刻蚀硅片 压印膜 纳米压印模板 纳米压印图形 厚度均匀性 薄膜沉积 衬底材料 多层薄膜 硅片报废 刻蚀工艺 纳米图形 纳米压印 良品率 硅片 衬底 返工 光刻 膜层 沉积 去除 损伤 测量 达标 制作 加工 发现 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模板，其特征在于：包括衬底（1），衬底（1）表面具有压印膜层（2），压印膜层（2）被加工形成纳米压印图形。/n
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