[发明专利]一种沉积层原子级缺陷的飞秒激光修复方法在审

专利信息
申请号: 201910810835.6 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN110548466A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 李晓鹏;支新涛;陆广华;袁松梅;王克鸿;王大森;周琦;彭勇 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12;H01S3/00;G02B1/10
代理公司: 32203 南京理工大学专利中心 代理人: 赵毅
地址: 210094 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种沉积层原子级缺陷的飞秒激光修复方法。该方法通过使用低于损伤阈值的飞秒激光扫描沉积层,改变沉积层内部及沉积层与光学元件连接界面的分子结构,减少空穴、色心等影响光学性能的缺陷。通过改变激光功率、脉冲频率、光斑大小等激光参数和扫描速度、扫描轨迹、光斑重叠率等加工工艺参数来修复沉积层及沉积层与基材结合面间的缺陷,提高修复效率。本发明由于采用上述方法,可修复光学元件表面机械加工及沉积层制备过程中存在的缺陷,保持光学元件面形精度及粗糙度不降低。本发明适用于对表面形貌要求严格的光学元件表面沉积层修复。
搜索关键词: 沉积层 光学元件表面 光斑 修复 飞秒激光扫描 光学元件连接 光学元件面形 加工工艺参数 空穴 表面形貌 飞秒激光 分子结构 基材结合 机械加工 激光参数 激光功率 脉冲频率 扫描轨迹 修复效率 影响光学 制备过程 粗糙度 可修复 原子级 重叠率 色心 扫描 损伤
【主权项】:
1.一种沉积层原子级缺陷的飞秒激光修复方法,其特征在于,包括光学元件表面沉积层的清洁、干燥及飞秒激光辐照光学元件表面沉积层的缺陷,通过使用低于损伤阈值的飞秒激光扫描沉积层,改变沉积层内部及沉积层与光学元件连接界面的分子结构。/n
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