[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 201910801621.2 | 申请日： | 2019-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN110872691A | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 川又由雄 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子装置株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50;C23C14/56;H01J37/34 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 罗英;臧建明 |
| 地址： | 日本神奈川县横浜市荣区笠间二*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种等离子体处理装置可根据旋转体表面的经过速度不同的位置，来对通过旋转体而循环搬送的工件进行所期望的等离子体处理。其包括：搬送部，具有设置于真空容器内且搭载工件而旋转的旋转体，并以圆周的搬送路径循环搬送工件；划定部，具有侧壁部及开口，侧壁部划定导入有反应气体的气体空间的一部分，开口与搬送路径相向；气体供给部，将反应气体供给至气体空间；及等离子体源，使反应气体产生用来对工件进行等离子体处理的等离子体，气体供给部从旋转体的表面经过进行等离子体处理的处理区域的时间不同的多个供给部位供给反应气体，且具有根据经过处理区域的时间，对多个供给部位的每单位时间的反应气体的供给量个别地进行调节的调节部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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