[发明专利]一种有序多孔纳米干涉薄膜中液晶排列取向的测试方法有效

专利信息
申请号: 201910799478.8 申请日: 2019-08-27
公开(公告)号: CN110501337B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 钱卫平;万一臻;周乐乐;刘若渔 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 金诗琦
地址: 211102 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种有序多孔纳米干涉薄膜中液晶排列取向的测量方法,包括以下步骤:a、制备二氧化硅胶体微球/无水乙醇溶液;b、向步骤a制得的溶液中竖直放入玻璃片,制备二氧化硅胶体晶薄膜并进行烷基化处理;c、将步骤b制得的薄膜固定于倒置光学显微镜载物台上,反射光线接入光纤光谱仪,测量薄膜的反射干涉光谱;d、将液晶通入步骤c制备的薄膜上,通入液晶、超纯水,实时测量反射干涉光谱;e、对选定反射干涉光谱波段进行拟合,得到光学厚度,即当前的取向信息;f、再通入表面活性剂,拟合,得到的光学厚度变化,即液晶排列取向变化。本发明对液晶排列取向测量方法更加准确,并且精度取决于光谱仪精度以及光源稳定性。
搜索关键词: 一种 有序 多孔 纳米 干涉 薄膜 液晶 排列 取向 测试 方法
【主权项】:
1.一种有序多孔纳米干涉薄膜中液晶排列取向的测量方法,其特征在于包括以下步骤:/n(a)制备二氧化硅胶体微球/无水乙醇溶液;/n(b)向步骤(a)制得的溶液中竖直放入玻璃片,采用垂直蒸发法在玻璃片表面制备二氧化硅胶体晶薄膜并进行烷基化处理;/n(c)将步骤(b)制得的二氧化硅胶体晶薄膜固定于光学基底上,将基底水平放置于倒置光学显微镜载物台上,调节显微镜载物台,使光斑对焦于薄膜上,将显微镜光路中反射光线通过光纤接入光纤光谱仪,测量二氧化硅胶体晶薄膜的反射干涉光谱;/n(d)将液晶通入步骤(c)制备的薄膜上,使得液晶进入薄膜的孔隙中,接着向薄膜中通入超纯水,实时测量反射干涉光谱;/n(e)对选定反射干涉光谱波段进行谱线拟合,经过计算得到光学厚度该光学厚度,即当前的取向信息;/n(f)再向薄膜中通入表面活性剂,实时进行谱线拟合,得到的光学厚度变化即可反映液晶在有序多孔纳米薄膜中的排列取向变化。/n
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