[发明专利]一种快速制备离子配位修饰黑磷纳米片的方法在审
申请号: | 201910727233.4 | 申请日: | 2019-08-07 |
公开(公告)号: | CN110316707A | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 喻学锋;汪建南;王佳宏 | 申请(专利权)人: | 深圳市中科墨磷科技有限公司;中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C01B25/00 | 分类号: | C01B25/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518111 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种快速制备离子配位修饰黑磷纳米片的方法。首先将固体黑磷材料及离子配合物进行混合,并利用玛瑙研钵在特定有机溶剂的分散下对混合物进行初步的研磨破碎。研磨破碎后的样品与有机溶剂一同加入到高压均质设备中进行均质处理,处理时间10~240min;均质后产物再经离心处理并吸取收集上清液,最终制得高浓度、高分散的离子配位修饰黑磷纳米片。本发明采用高压均质设备一步法制备离子配位修饰黑磷纳米片,不仅能够有效促进配体离子与黑磷纳米片表面或层间磷原子的配位,而且还能进一步增加对固体黑磷材料的剥离程度及整体利用率,极大程度的改善了现有超声工艺当中单次处理时间长、单次处理量小、可控性差,以及循环困难等一系列问题。 | ||
搜索关键词: | 黑磷 纳米片 离子配位 修饰 高压均质 快速制备 研磨破碎 有机溶剂 离子配合物 一步法制备 整体利用率 超声工艺 均质处理 离心处理 玛瑙研钵 有效促进 处理量 高分散 混合物 可控性 磷原子 上清液 层间 均质 配体 配位 离子 剥离 | ||
【主权项】:
1.一种快速制备离子配位修饰黑磷纳米片的方法,其特征在于:包括如下步骤:1)将固体黑磷材料与离子配合物进行混合,并在有机溶剂的分散下,经研磨破碎后得前驱液Ⅰ;2)将前驱液Ⅰ加入到高压均质设备当中,均质处理后得前驱液Ⅱ;3)对前驱液Ⅱ进行离心处理,吸取并收集上清液即得到分散于有机溶剂中的离子配位修饰黑磷纳米片。
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