[发明专利]凝视型焦平面阵列的非均匀性校正方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910715036.0 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN110361094B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 谭恢先 申请(专利权)人: 深圳市华源大方科技有限公司
主分类号: G01J5/48 分类号: G01J5/48;G01J5/80;G01J5/90
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 安卫静
地址: 518000 广东省深圳市福田区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供了一种凝视型焦平面阵列的非均匀性校正方法及装置,包括:根据预设采样周期采集恒温箱内的常温被动式均匀温度面的输出值,并采集目标温度值;基于一线校正法的数学模型对常温被动式均匀温度面的输出值和目标温度值进行线性拟合,得到校正系数;将校正系数存储至待校正设备,以使待校正设备基于校正系数对待校正设备的实测值进行校正。在本发明中,参与线性拟合的参量多样化,能够更客观地反映待校正设备自身在不同环境下的热辐射特性,能够适应于各种不同的环境条件,有较好的校正效果,恒温箱内的温度能够覆盖待校正设备的工作温度范围,只需一次校正,提高了效率,采用的一线校正法的数学模型简单。
搜索关键词: 凝视 平面 阵列 均匀 校正 方法 装置
【主权项】:
1.一种凝视型焦平面阵列的非均匀性校正方法,其特征在于,包括:根据预设采样周期采集恒温箱内的常温被动式均匀温度面的输出值,并采集目标温度值;其中,所述常温被动式均匀温度面置于待校正设备前方,所述恒温箱内的温度按照预设温度控制流程进行调节,且所述恒温箱内的温度能够覆盖所述待校正设备的工作温度范围;所述目标温度值包括以下全部或者部分:所述待校正设备中焦平面阵列的靶面温度值、前腔室温度值、后腔室温度值、环境温度测量值、全局偏置值和积分时间值;基于一线校正法的数学模型对所述常温被动式均匀温度面的输出值和所述目标温度值进行线性拟合,得到校正系数;其中,所述一线校正的数学模型由乘法和加减法构成;将所述校正系数存储至所述待校正设备,以使所述待校正设备基于所述校正系数对所述待校正设备的实测值进行校正。
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