[发明专利]一种矩阵式UV光刻工艺制作Thermal Pad类型产品的方法在审
申请号: | 201910708777.6 | 申请日: | 2019-08-01 |
公开(公告)号: | CN110446362A | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 刘玮;王远;罗奇;张飞龙 | 申请(专利权)人: | 景旺电子科技(龙川)有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;G03F9/00;G03F7/20 |
代理公司: | 广州凯东知识产权代理有限公司 44259 | 代理人: | 李俊康 |
地址: | 517300*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种矩阵式UV光刻工艺制作Thermal Pad类型产品的方法,对单面覆铜铜铝复合板进行曝光、显影、蚀刻,在Thermal Pad位置蚀刻掉铜层,露出需要矩阵切割的介质层以及获得线路层;对单面覆铜铜铝复合板进行防焊层制作,露出需要UV光刻的Thermal Pad位置及UV光刻时所需要的对位靶点;矩阵UV光刻机光刻介质层,选取防焊层制作的靶点为对位点;Thermal Pad光刻对位系统在防焊层制作时一同制作,可以确保Thermal Pad光刻位置与防焊层的对位精度误差<30μm;本发明生产方法优化成常规印刷方式,并采用矩阵UV光刻介质层,规避了防焊印刷落差工艺难点,从根本上解决了防焊显影不净的制程能力问题。 | ||
搜索关键词: | 防焊层 介质层 矩阵 蚀刻 铜铝复合板 单面覆铜 工艺制作 矩阵式 制作 靶点 对位 防焊 光刻 显影 对位系统 工艺难点 光刻位置 精度误差 矩阵切割 能力问题 印刷方式 对位点 线路层 刻机 铜层 制程 落差 印刷 曝光 优化 生产 | ||
【主权项】:
1.一种矩阵式UV光刻工艺制作Thermal Pad类型产品的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤S1:压合材料开料;RCC真空抽湿4H、开料;铜铝复合板开料,对铜铝复合板进行双面磨板,磨板后确认铜面无异物;在铜铝复合板铝面上贴耐酸碱保护膜;对铜铝复合板铜面棕化,棕化后板间隔洁净的胶片;步骤S2:对压合材料进行压合;将RCC胶面保护膜撕掉,并与铜铝复合板居中假贴;将假贴好的铜铝复合板通过热压机进行热压,热压滚轮温度120℃‑140℃,传动速度1m/min,热压过程确保RCC与铜铝复合板铜面无滑动,RCC与铜铝复合板的棕化面80%粘结;在RCC上表面贴合双层离型膜,双层离型膜间设有硅胶垫,铜铝复合板铝面贴合离型膜;通过传压方式获得单面覆铜铜铝复合板;步骤S3:线路制作;对单面覆铜铜铝复合板化学清洁;对单面覆铜铜铝复合板进行贴膜、曝光、显影、蚀刻,Thermal Pad位置蚀刻掉铜层,露出需要矩阵切割的介质层以及获得线路层;步骤S4:对单面覆铜铜铝复合板进行防焊层制作,对单面覆铜铜铝复合板进行等离子表面处理;使介质层材料(PI)粗化,提高阻焊油墨与介质层的结合力;对单面覆铜铜铝复合板进行超粗化处理后,进行防焊印刷、预烤、曝光、显影得到防焊层,露出需要光刻的Thermal Pad位置及光刻时所需要的对位靶点;步骤S5:矩阵UV光刻机光刻介质层,选取步骤S4防焊层制作的靶点为对位点;UV光刻机光刻介质层,在UV光刻机中,参数选择矩阵切割方式,UV光刻机对介质层的切割次数≥5次,决不可以一次完成切割;步骤S6:对单面覆铜铜铝复合板进行丝印字符;步骤S7:对单面覆铜铜铝复合板进行沉金处理;步骤S8:对单面覆铜铜铝复合板进行钻孔;步骤S9:对单面覆铜铜铝复合板进行锣板,获得Thermal Pad类型产品;步骤S10:对Thermal Pad类型产品进行测试;步骤S11:对Thermal Pad类型产品进行检验;步骤S13:对Thermal Pad类型产品进行成品包装。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于景旺电子科技(龙川)有限公司,未经景旺电子科技(龙川)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910708777.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种矩阵式LED车灯用电路板及制作方法
- 下一篇:一种线路板蚀刻方法及线路板