[发明专利]离子注入机、晶圆片温度的实时监测方法及系统在审

专利信息
申请号: 201910700629.X 申请日: 2019-07-31
公开(公告)号: CN112309810A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 郑永哲 申请(专利权)人: 上海先进半导体制造股份有限公司
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/317;H01L21/67
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;张冉
地址: 200233 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种离子注入机、晶圆片温度的实时监测方法及系统。离子注入机包括靶盘和高真空腔体,高真空腔体壁上开设有一玻璃窗口,玻璃窗口的位置与靶盘上的装载的晶圆片的位置相适应;玻璃窗口的材料为硒化锌玻璃;玻璃窗口用于固设红外探测器的探温探头;红外探测器用于在进行离子注入工艺过程中实时监测高真空腔体内的靶盘上装载的晶圆片的温度,并在检测到的温度高于预设值时报警。本发明通过在高真空腔体壁上开设专用硒化锌玻璃窗口,能偶直接监测高速旋转的靶盘上的晶圆片的温度,当晶圆片温度发生异常时,能及时有效的发现问题发出报警,能够防止当离子注入机的靶盘的冷却系统出现异常时导致晶圆片温度过高造成产品报废的问题。
搜索关键词: 离子 注入 晶圆片 温度 实时 监测 方法 系统
【主权项】:
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