[发明专利]投影仪、投射系统和投射方法有效
| 申请号： | 201910694626.X | 申请日： | 2019-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN110780513B | 公开（公告）日： | 2021-10-15 |
| 发明（设计）人： | 三好一弘;春日博文;西村直也;尾岛匡则 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/00 | 分类号： | G03B21/00;G09G3/00;G09F19/18;H04N9/31 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李庆泽;邓毅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 投影仪、投射系统和投射方法。使得提高图像的趣味性并引起较多关注。第2投影仪(200)与显示有基础图像(105)的投射面(20)相对配置，具有将第2图像光投射到投射面(20)上的投射部(240)，第2投影仪(200)使被投射了第2图像光的基础图像(105)的可视性相比于第2图像光未被投射到投射面(20)上的状态降低。 | ||
| 搜索关键词： | 投影仪 投射 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种投影仪，其与显示有基础图像的投射面相对配置，具有将图像光投射到所述投射面上的投射部，/n所述投影仪使被投射了所述图像光的所述基础图像的可视性相比于所述图像光未被投射到所述投射面的状态降低。/n
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