[发明专利]反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理方法及装置在审

专利信息
申请号: 201910674652.6 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN112296832A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 沈江民 申请(专利权)人: 河南卓金光电科技股份有限公司
主分类号: B24B27/033 分类号: B24B27/033;B24B41/00;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/16;B24B47/22;B24B49/00;B24B49/16;C23C14/35
代理公司: 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人: 谢肖雄
地址: 471000 河*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 为了解决现有技术中反应磁控溅射旋转阴极表面中毒后均采用手砂轮磨光机手工表面抛磨方法去除阴极表面的结瘤氧化物层而导致的不良率居高不下的问题,本发明提供一种反应磁控溅射旋转阴极靶中毒的表面处理方法,将反应溅射阴极中毒靶材设置在能够沿Y轴上下运动的旋转阴极靶升降机构上;再通过Y轴导入机构使反应溅射阴极中毒靶材与旋转阴极靶的中轴线重合;然后通过旋转阴极靶锁定机构将反应溅射阴极中毒靶材位置锁定并沿X轴水平推拉;通过高速千叶磨轮Z轴升降机构对高速千叶磨轮进行Z轴控制,实现反应溅射阴极中毒靶材的X轴方向打磨,直至打磨完成。本发明旋转阴极靶快捷表面处理技术方法操作简单,表面处理光洁度高、处理效率高。
搜索关键词: 反应 磁控溅射 旋转 阴极 中毒 表面 处理 方法 装置
【主权项】:
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