[发明专利]阴阳极交替的大电流GaN肖特基二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201910664067.8 申请日: 2019-07-23
公开(公告)号: CN110518074B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 陈大正;张春福;吴艺聪;赵胜雷;张雅超;朱卫东;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L21/329;H01L29/06;H01L29/20;H01L29/41
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 王品华
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种阴阳极交替的大电流GaN肖特基二极管器件,主要解决现有GaN肖特基二极管器件无法满足更大电流以及更大功率应用需求的问题,其自下而上包括:衬底(1)、高阻Buffer层(2)、AlGaN势垒层(3)、AlN插入层(4)和GaN层(5);GaN层(5)上设有钝化层(6)和阴极(7),钝化层(6)和阴极(7)上设有介质层(8);高阻Buffer层、AlGaN势垒层、AlN插入层、GaN层、钝化层和介质层内贯穿有凹槽(9),该凹槽上设有阳极(10),且阴极和阳极采用阳极环与阴极环的同心交替嵌套结构。本发明提高了阳极利用率,增大了电流密度,可用于微波整流、限幅器、功率开关和功率转换电路。
搜索关键词: 阴阳 交替 电流 gan 肖特基 二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种阴阳极交替的大电流GaN肖特基二极管,自下而上包括:衬底(1)、高阻Buffer层(2)、AlN插入层(3)、AlGaN势垒层(4)、和GaN层(5),GaN层(5)上设有钝化层(6)和阴极(7),钝化层(6)和阴极(7)上设有介质层(8);高阻Buffer层(2)、AlN插入层(3)、AlGaN势垒层(4)、GaN层(5)、钝化层(6)和介质层(8)内贯穿有凹槽(9),该凹槽(9)上设有阳极(10),其特征在于:/n阳极(10)采用以实心圆为中心,外部分布有多个阳极开口圆环;阴极(7)采用分布在阳极环之间的多个阴极开口圆环,形成阳极环与阴极环的同心交替嵌套结构;/n阳极环与阴极环之间的间距均为1μm-50μm,且最大开口圆环半径为90μm-120μm;中心的阳极实心圆半径为0.5μm-3μm,阳极圆环与阴极圆环宽度均为1μm-5μm。/n
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