[发明专利]反射式光学元件在审
| 申请号: | 201910652986.3 | 申请日: | 2019-07-18 |
| 公开(公告)号: | CN110737037A | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
| 发明(设计)人: | D.库兹涅佐夫;A.E.雅信;H.恩基什;V.梅德韦德夫;F.比耶克 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号: | G02B5/08 | 分类号: | G02B5/08;G03F7/20;G21K1/06;C23C28/04;C23C28/00;C23C8/36;B82Y10/00 |
| 代理公司: | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王蕊瑞 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 提出了一种用于从1nm到12nm范围内的工作波长的反射式光学元件(50),其在基板(51)上具有由至少两个交替材料(56、57)构成的多层系统(54),该至少两个交替材料在工作波长处具有不同的折射率实部,其中多层系统(54)包括来自由钍、铀、钡、其氮化物、其碳化物、其硼化物、碳化镧、氮化镧、硼化镧形成的组合的第一交替材料(56)以及来自由碳、硼、碳化硼形成的组合的第二交替材料(57),或者镧作为第一交替材料(56)以及碳或硼作为第二交替材料(57),该反射式光学元件在多层系统(54)远离基板的一侧具有包括氮化物、氧化物和/或铂金属的保护层系统(52)。 | ||
| 搜索关键词: | 交替材料 多层系统 反射式光学元件 工作波长 氮化物 基板 保护层系统 折射率实部 氮化 铂金属 硼化物 硼化镧 碳化硼 碳化物 碳化镧 自由碳 氧化物 自由 | ||
【主权项】:
1.一种反射式光学元件,用于在从1nm到12nm的范围中的工作波长,所述反射式光学元件在基板上包括由在所述工作波长处具有不同折射率实部的至少两个交替材料构成的多层系统,所述反射式光学元件的特征在于所述多层系统包括来自由钍、铀、钡、其氮化物、其碳化物、其硼化物、碳化镧、氮化镧、硼化镧形成的组合的第一交替材料以及来自由碳、硼、碳化硼形成的组合的第二交替材料,或者镧作为第一交替材料以及碳或硼作为第二交替材料,并且在于所述反射式光学元件在所述多层系统的远离所述基板的一侧上,具有包含氮化物、氧化物和/或铂金属的保护层系统。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司,未经卡尔蔡司SMT有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910652986.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:宽角度应用高反射镜
- 下一篇:低角度漂移的多带通滤光片





