[发明专利]光照射装置、光学评估装置和物品制造方法在审
| 申请号： | 201910591735.9 | 申请日： | 2019-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110672615A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 植村卓典 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 曾琳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本公开内容涉及光照射装置、光学评估装置和物品制造方法。一种用于用光照射物体的光照射装置，包括：多个线状遮光器，其以预定的中心至中心间隔布置，并且被配置为至少部分地阻挡光；以及多个线状光照射器，其被布置为与多个遮光器中的一些重叠，以便用光照射物体。多个光照射器被布置为形成不小于多个遮光器的中心至中心间隔的两倍的周期。 | ||
| 搜索关键词： | 遮光器 光照射装置 中心间隔 光照射 光学评估 光照射器 物品制造 线状光 照射器 线状 阻挡 配置 | ||
【主权项】：
1.一种用于用光照射物体的光照射装置，其特征在于，包括：/n线状的多个遮光器，以预定的中心至中心间隔布置，并被配置为至少部分地阻挡光；以及/n线状的多个光照射器，被布置为与所述多个遮光器中的一些重叠以便用光照射物体，/n其中，所述多个光照射器被布置为形成不小于所述多个遮光器的中心至中心间隔的两倍的周期。/n
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