[发明专利]基于剂量场检测的辐射成像方法及装置有效

专利信息
申请号: 201910568018.4 申请日: 2019-06-27
公开(公告)号: CN112146601B 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 陈志强;李元景;韩志伟;杨光;覃怀莉;戚文元;邝山;梁爱凤;刘燕琴 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司;同威信达技术(北京)股份有限公司;上海束能辐照技术有限公司
主分类号: G01B15/02 分类号: G01B15/02;G01T1/29
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 彭琼
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开公开了一种基于剂量场检测的辐射成像方法及装置。其中,基于剂量场检测的辐射成像方法包括:获取采用X射线扫描待检测物体时待检测物体在X射线对应的辐照能量下的质量厚度数据;根据待检测物体对应的质量厚度分类条件,对质量厚度数据中的各个质量厚度值进行分类;其中,质量厚度分类条件根据待检测物体对应的质量厚度值和电子束辐照剂量分布数据的映射关系数据确定;根据各个质量厚度值及其所属分类、电子束辐照剂量分布数据,生成用于显示待检测物体的质量厚度和电子束辐照剂量分布数据的辐射图像。根据本公开实施例,使得测试人员能够直观地根据辐射图像确定剂量不均匀度是否符合要求,提高测试效率、降低测试成本。
搜索关键词: 基于 剂量 检测 辐射 成像 方法 装置
【主权项】:
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