[发明专利]稳流装置及拉晶炉有效
申请号: | 201910561753.2 | 申请日: | 2019-06-26 |
公开(公告)号: | CN110158154B | 公开(公告)日: | 2021-04-02 |
发明(设计)人: | 潘浩;全铉国 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | C30B30/04 | 分类号: | C30B30/04;C30B29/06;C30B27/02 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;胡影 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供一种稳流装置及拉晶炉,其中,稳流装置应用于拉晶炉,包括:第一稳流罩,所述第一稳流罩上设有多个第一通孔,所述第一稳流罩用于安装在所述拉晶炉的副炉室内,以调节通入所述拉晶炉内的惰性气体的流向;第二稳流罩,所述第二稳流罩上设有多个第二通孔,所述第二稳流罩用于安装在所述拉晶炉的副炉室,并与所述第一稳流罩相对设置,用于调整经过所述第一稳流罩调整后的所述惰性气体的流向。根据本发明的稳流装置,可以约束惰性气体流动方向,降低单晶硅棒的摆动幅度,减少单晶生长位错现象发生的几率,避免不纯物对晶棒和热场部件侧壁造成污染和侵蚀。 | ||
搜索关键词: | 装置 拉晶炉 | ||
【主权项】:
1.一种稳流装置,应用于拉晶炉,其特征在于,包括:第一稳流罩,所述第一稳流罩上设有多个第一通孔,所述第一稳流罩用于安装在所述拉晶炉的副炉室内,以调节通入所述拉晶炉副炉室内的惰性气体的流向;第二稳流罩,所述第二稳流罩上设有多个第二通孔,所述第二稳流罩用于安装在所述拉晶炉的副炉室内,并与所述第一稳流罩相对设置,用于调整经过所述第一稳流罩调整后的所述惰性气体的流向。
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