[发明专利]一种具有可修饰基团的聚砜、及其制备方法以及修饰后的聚砜在审

专利信息
申请号: 201910560977.1 申请日: 2019-06-26
公开(公告)号: CN110229334A 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 李胜海;郭靖;牟倡骏;郑吉富;张所波 申请(专利权)人: 中国科学院长春应用化学研究所
主分类号: C08G75/20 分类号: C08G75/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 豆贝贝
地址: 130022 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供了一种具有可修饰基团的聚砜、及其制备方法以及修饰后的聚砜。本发明提供的制备方法中,先将苯酚类化合物与卤化二苯砜反应,形成联苯醚,再采用超酸作为催化剂,将联苯醚与靛红类化合物进行羟烷基化反应,从而得到式(1)所示具有可修时基团的聚砜。本发明的制备方法中,由于羟基中间体联苯醚的反应活性远高于含羰基的单体,使得在超酸条件下,两种单体可以在不等当量的投料下实现聚合,不需精密称量,降低了操作和控制难度;且在得到联苯醚单体后,与靛红类化合物在室温下即可实现聚合,相比于现有技术,对反应条件的要求明显降低。同时,本发明的制备方法能够提高聚合度,获得高分子量产物,并提高产品收率。
搜索关键词: 聚砜 制备 联苯 式( 1 ) 靛红类化合物 修饰基团 修饰 聚合 卤化 苯酚类化合物 高分子量产物 羟烷基化反应 羟基中间体 反应活性 反应条件 精密称量 二苯砜 聚合度 酸条件 收率 投料 羰基 催化剂
【主权项】:
1.一种具有可修饰基团的聚砜,其特征在于,具有式(1)所示结构:其中,R1、R2、R3和R4中至多有两个为‑CH3,其余为‑H;R5为‑H、‑N(CH3)2或‑Br;n为0~4。
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