[发明专利]一种纳米压印模组及其压印方法在审
| 申请号： | 201910549453.2 | 申请日： | 2019-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN110133962A | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 王健;李建;张文余;黄东升;徐诗雨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 李欣 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种纳米压印模组及其压印方法，在模板一侧的纳米压印结构与基板一侧的纳米压印胶层接触压印时，对电极结构施加电压，通过改变纳米压印胶层液滴与纳米压印结构之间的电压，来改变纳米压印胶层液滴在纳米压印结构上的润湿性，即改变液滴与纳米压印结构之间的接触角，液滴在纳米压印结构表面能铺展，固液接触面有扩大趋势，即液滴对纳米压印结构表面的附着力大于其内聚力，使与纳米压印结构接触的纳米压印胶层液滴具有润湿性，可以使纳米压印胶层液滴对纳米压印结构填充充分。因此本发明的纳米压印模组解决了现有技术中因对模板进行抗粘处理导致模板与纳米压印胶层液滴的接触角变大，导致纳米压印胶对模板的纳米结构填充不充分的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米压印 纳米压印胶 液滴 纳米压印模 结构表面 接触角 润湿性 压印 附着力 结构施加电压 固液接触面 结构接触 结构填充 纳米结构 对电极 接触压 基板 抗粘 铺展 填充 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模组，其特征在于，包括：相对设置的模板和基板，所述模板面向所述基板一侧具有纳米压印结构，所述基板面向所述模板一侧具有纳米压印胶层；还包括位于所述模板与所述基板之间的电极结构；在所述模板一侧的纳米压印结构与所述基板一侧的纳米压印胶层进行接触压印时，所述电极结构被配置为在电压的驱动下，使与所述纳米压印结构接触的纳米压印胶层的液滴具有润湿性。
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