[发明专利]用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备在审
| 申请号： | 201910524333.7 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN110610844A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | X·常;A·恩古耶 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/683;H01L21/687 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中，所述基板支撑件可以包括：主体；接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。 | ||
| 搜索关键词： | 衬里 接地外壳 基板支撑件 金属紧固件 上唇缘 导电材料 绝缘体环 工艺配件 向内 穿过 延伸 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种基板支撑件，包括：/n主体；/n接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；/n衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；/n金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置并且将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及/n第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并且覆盖所述金属紧固件。/n
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