[发明专利]一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201910518332.1 | 申请日： | 2019-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN110204208B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 董伟霞;包启富;周健儿 | 申请（专利权）人： | 景德镇陶瓷大学 |
| 主分类号： | C03C8/20 | 分类号： | C03C8/20;C04B41/86 |
| 代理公司： | 广州广信知识产权代理有限公司 44261 | 代理人： | 李玉峰 |
| 地址： | 333403 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉，其原料组成为：透锂长石45～55wt％、高岭土4～7wt％、高温低膨胀熔块25～35wt％、高温透明熔块5～15wt％、硅微粉0～10wt％、釉面稳定剂3～6wt％。此外，还公开了上述适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉的制备方法和应用。本发明配方体系在氧化气氛条件下具有较大的熔融温度范围，有效解决了釉面孔洞等缺陷问题，在具有良好稳定性的同时实现了易清洁的目的。本发明制备方法基于通用的日用陶瓷釉料以及日用陶瓷的生产过程即可，适用于多种低膨胀陶瓷坯体，尤其为与电器配套使用的低膨胀陶瓷锅具提供了必备条件，对于低膨胀陶瓷产业的技术进步和应用发展具有促进作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 膨胀 陶瓷 乳白 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种适用于低膨胀陶瓷的易洁乳白釉，其特征在于原料组成为：透锂长石45～55wt％、高岭土4～7wt％、高温低膨胀熔块25～35wt％、高温透明熔块5～15wt％、硅微粉0～10wt％、釉面稳定剂3～6wt％。
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