[发明专利]一种基于光响应聚合物的压印多重纳米图案的方法

摘要

本发明公开了一种基于光响应聚合物的压印多重纳米图案的方法，所用聚合物的玻璃化温度(Tg)具有光调控的性质，在基底上涂上一层聚合物薄膜，对其施加较短波长光照，使其发生玻璃化温度的下降，利用热塑性纳米压印的方法对其图案化，随后通过较长波长光照，使其发生玻璃化温度的回复，实现固化。该过程可以在光学掩膜条件下无限次重复，进行多次光照、压印、固化，最终得到含有多重纳米结构的薄膜。该方法可应用于防伪识别、信息存储、半导体芯片制造技术等领域，扩大了纳米压印光刻技术的应用范围。

主权项

1.一种制备多重纳米图案的方法，包括以下步骤：1)将可光调控玻璃化温度的聚合物材料配制成溶液，并在基底上形成聚合物薄膜；2)对聚合物薄膜对薄膜施加较短波长光照，使聚合物发生玻璃化温度的下降，聚合物薄膜变软；3)利用一含有纳米结构的压印模板在聚合物薄膜表面压印出纳米结构，保持压印条件下施加较长波长光照，使聚合物发生玻璃化温度回复，聚合物薄膜变硬，随后脱模；4)将一含有图案的光学掩膜置于聚合物薄膜表面之上，施加较短波长光照，使聚合物薄膜的受光照区域发生玻璃化温度的下降并变软；5)利用另一含有纳米结构的压印模板在聚合物薄膜表面变软区域压印出纳米图案，保持压印条件下施加较长波长光照，使聚合物发生玻璃化温度回复而变硬，脱模；6)重复步骤4)和5)零次、一次或多次，形成表面具有多重纳米图案的聚合物薄膜。