[发明专利]一种波像差测量装置、测量方法及光刻机有效
| 申请号： | 201910471627.8 | 申请日： | 2019-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN112014070B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 赵灿武;马明英 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种波像差测量装置、测量方法及光刻机，波像差测量装置包括：照明系统，产生照明光束；物面小孔板，位于照明系统的出光侧，固定在掩模台上，物面小孔板上设置有多个物面小孔，每一物面小孔包括g个不同光栅方向的物面小孔标记，g为大于或者等于2的正整数，物面小孔板上的多个物面小孔标记阵列排布；同一阵列行中的物面小孔标记具有相同的光栅方向；沿阵列行方向上，同一阵列行中相邻两个物面小孔标记之间的距离为h1；沿阵列行方向上，光栅方向相同的两阵列行中距离最近的两个物面小孔标记之间的最小距离为h2，h1＝m×h2，m为大于或者等于2的正整数；光栅方向相同的任意两行物面小孔标记阵列式排布。本发明以实现提高检测效率，以及避免信号串扰。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 波像差 测量 装置 测量方法 光刻 | ||
【主权项】：
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