[发明专利]陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法有效

专利信息
申请号: 201910462793.1 申请日: 2019-05-30
公开(公告)号: CN110355620B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 赵军;黄金锋;王睿;吕经国 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: B24B1/04 分类号: B24B1/04;B24B41/04;B24B47/20;B24B57/02
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 吴辉辉
地址: 310014 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法,通过在碳化硅材料上涂覆芬顿液,使得碳化硅在羟基自由基的作用下转化成更易去除的二氧化硅,再利用旋转超声工加工方法,高频振动的工具头冲击磨粒,通过高能磨粒对衬底材料的机械冲击、剪切、抛磨、锤击、加工液的空化现象和高速旋转的超硬陶瓷球体带动磨粒对衬底材料的多级研抛作用去除二氧化硅,暴露出底下的碳化硅,得到微半球凹模阵列本发明能够较快的在硬脆材质碳化硅工件上加工出优质几何性质的微半球凹模阵列。
搜索关键词: 陶瓷 材质 上芬顿 辅助 旋转 超声 高效 抛光
【主权项】:
1.陶瓷材质上芬顿辅助的旋转超声高效抛光法,其特征在于:S1、配置芬顿液将其和研磨液混合成研抛液,将研抛液均匀滴加在工件表面拟加工位置;S2、超硬陶瓷球体被限制在铝合金导向基板上固定于旋转工具头前端,芬顿液将碳化硅工件氧化成二氧化硅,旋转超声工具头在纵向高频震动的同时在水平面上高速旋转,通过激发芬顿液中的磨粒,依靠磨粒对衬底材料的机械冲击、剪切、抛磨、加工液的空化现象去除材料;同时利用旋转运动保证形状精度。S3、通过控制加工参数实现多级研磨。
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