[发明专利]用于湿法蚀刻氮化硅的组合物有效
| 申请号： | 201910462633.7 | 申请日： | 2019-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN110551503B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 李锡浩;宋定桓;全成植;赵诚一;金炳卓;林娥铉;李浚宇 | 申请（专利权）人： | LTCAM株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟海胜;马铁军 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于湿法蚀刻氮化硅膜的组合物，其包含无机酸、硅化合物和水，但不含氟。该组合物能够选择性地除去氮化硅膜，同时对底层金属膜的损伤和氧化硅膜的蚀刻速率最小化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 湿法 蚀刻 氮化 组合 | ||
【主权项】：
1.一种用于蚀刻氮化硅膜的组合物，所述组合物包含无机酸、由化学式1表示的硅基化合物和水，但不含氟，并且具有比氧化物膜的蚀刻速率快至少200倍的氮化物膜的蚀刻速率，/n【化学式1】/n(R1)
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