[发明专利]具有拥有组合的低介电常数、高电阻率和光密度及受控电阻率的组合物的涂层、器件及制法

摘要

本发明涉及具有拥有组合的低介电常数、高电阻率、和光学密度性质及受控电阻率的填料‑聚合物组合物的涂层、用它制成的器件、及其制造方法。更具体地说，描述了包含具有高电阻率、低介电常数、良好的光学密度和受控的电阻率的双相填料‑聚合物组合物的UV固化性涂料、由其形成的固化的涂层或膜、以及它们在LCD中的黑矩阵、黑柱间隔体、和其它光屏蔽涂层元件中的用途。还描述了具有这些黑矩阵、黑柱间隔体、和/或其它光屏蔽涂层元件的器件、以及制备和制造这些各种各样的材料和产品的方法。

主权项

1.UV固化性涂层，其包括包含如下的填料‑聚合物组合物：至少一种聚合物、光引发剂和至少一种填料，所述填料包括：a)受控量的具有二氧化硅相和碳相的双相填料，其中所述受控量为选自1重量％填料加载量‑40重量％填料加载量的量，或者b)具有二氧化硅相和碳相的双相填料，其中所述二氧化硅相为受控表面覆盖率量的二氧化硅相，其中所述二氧化硅相的所述受控表面覆盖率量为约50％‑约99％，和其中越高的受控表面覆盖率量在所述涂层中提供越高的电阻率，或者c)具有二氧化硅相和碳相的双相填料，其中所述双相填料具有受控形态；或者d)a)、b)、和c)的任意组合，其中，在a)至d)的每一个中，双相填料的二氧化硅相不利地影响UV固化性涂层的粒子光屏蔽性能，并且其中，所述涂层具有通过ASTM D257‑93测量的10⁶‑10¹⁶欧姆/□的表面电阻率、且具有小于20的介电常数且具有在约1微米的厚度下测量的至少约1或更大的光学密度，和其中，所述二氧化硅相以10重量％‑约90重量％的量存在，基于所述双相填料的重量，所述双相填料包括具有小于250nm的平均聚集体尺寸和50nm或更小的平均一次粒度的熔合的一次粒子，所述双相填料当在空气中以5摄氏度/分钟的温度斜率经历从120℃升高至450℃的温度时具有小于1％的重量损失，其中，在将所述填料‑聚合物组合物在最高达所述至少一种聚合物的热稳定性的温度下热处理或后处理时，保持所述填料‑聚合物组合物的所述电阻率。