[发明专利]基于碱刻蚀技术的光纤马赫-曾德尔干涉仪及其制作方法

摘要

本发明公开一种基于碱刻蚀技术的光纤马赫‑曾德尔干涉仪及其制作方法，属于光纤干涉仪技术领域，在两个单模光纤之间熔接一段大芯径锗芯光纤，经过侧面抛磨，去掉锗芯光纤的一部分包层，利用碱刻蚀锗芯，在锗芯光纤的纤芯中制作一个微腔。从单模光纤入射的光在锗芯光纤处被分成两部分，一部分沿锗芯光纤剩余纤芯传播，另一部分沿形成的微腔传播。这两部分光再次被耦合进入单模光纤时发生干涉，从而构造出在线光纤马赫曾德干涉仪，该干涉仪除了具有高性能之外，还具有低成本、易于制造和能产生规则透射光谱的优点，这种的结构将为实现各种光纤器件提供一个平台。

主权项

1.一种基于碱刻蚀技术的光纤马赫‑曾德尔干涉仪的制作方法，其特征在于：所述的方法包括以下步骤：S1：在第一单模光纤(1)和第二单模光纤(3)之间熔接锗芯光纤(2)，形成两侧为单模光纤，中部为锗芯光纤(2)的整体结构；S2：把制作的步骤S1中的两侧为单模光纤，中部为锗芯光纤(2)的整体结构，利用砂纸进行侧面抛磨，使锗芯光纤(2)的一部分锗芯(4)裸露在外界环境中；S3：把步骤S2中经过侧面抛磨的两侧为单模光纤，中部为锗芯光纤(2)的整体结构浸入碱溶液中，利用碱溶液对锗芯(4)进行刻蚀；S4：经过一段时间后，在经过侧面抛磨的锗芯光纤(2)的锗芯(4)中刻蚀出一个微腔(5)；S5：在第一单模光纤(1)中投射入射光，入射光通过第一单模光纤(1)后被分成两部分，一部分沿锗芯光纤(2)中剩余锗芯(4)传播，另一部分沿步骤S4中形成的微腔(5)传播；S6：步骤S5中的两部分光被耦合至第二单模光纤(3)，两部分光在第二单模光纤(3)中相遇并发生干涉，形成光纤马赫‑曾德尔干涉仪。