[发明专利]一种磁流变抛光斑提取方法有效
| 申请号： | 201910430190.3 | 申请日： | 2019-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN110136215B | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 张云飞;房彪;周涛;张建飞;黄文;李凯隆;郑永成;陈华;樊炜;陈立 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | G06T7/90 | 分类号： | G06T7/90;G06T7/40;G06T7/13;G06T5/40;G06T5/00;G06N3/06 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 熊曦 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁流变抛光斑提取方法，本发明的方法利用人类大脑视觉皮层中的双拮抗神经元的色彩和空间对抗机制对磁流变抛光斑进行边缘检测并进行提取，并利用该神经元的空间稀疏反应约束特点来抑制磁流变抛光斑中的噪声信号和其他干扰信息；本发明解决了目前人工手动提取磁流变抛光斑存在精度不够高、提取效率低问题，具有鲁棒性好、自动化程度高优点，提高了抛光工艺过程控制的准确性和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 流变 抛光 提取 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁流变抛光斑提取方法，其特征在于，所述方法包括：步骤S1、获取采斑件面形数据；步骤S2、将采斑件面形数据向图像数据转换；步骤S3、分离出图像数据中的RGB三色分量；步骤S4、分别对分离出的图像数据中的RGB三色分量，利用双拮抗神经元机制提取出抛光斑边缘特征；S5、对提取出的抛光斑边缘特征，利用空间稀疏约束抑制抛光斑中的噪声纹理信息：S6、对抛光斑中的噪声纹理信息处理后的抛光斑图像进行几何特征提取。
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