[发明专利]一种并行光学相干层析成像设备自动对焦系统和方法有效

专利信息
申请号: 201910411934.7 申请日: 2019-05-17
公开(公告)号: CN110132897B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 王金玉;汪岳峰;尹韶云;杜凯;李刚 申请(专利权)人: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院;威高集团有限公司
主分类号: G01N21/45 分类号: G01N21/45;G01N21/01
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 尹丽云
地址: 400714 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供一种并行光学相干层析成像设备自动对焦系统和方法,包括有光源产生光;将光分解为采样光和参考光,采样光照射待测样品后返回第一回光,参考光照射参考镜面后返回第二回光;将第一回光和第二回光合束成第一合成光,检测获得第一合成光的光学相干层析信号强度峰值;将参考镜面共轭至待测样品表面作为参考成像面;将样品臂焦平面定位在参考成像面上,根据光学相干层析信号强度峰值确定样品臂焦平面,完成自动对焦。本发明基于并行光学相干层析成像设备本身作为多通道的弱相位时域光学干涉系统,利用系统本身的自检测量能力,无需额外对焦模块,以微米以下的重复精度实现显微物镜的焦面、参考臂镜面同时对准折射材料下表面的快速对焦过程。
搜索关键词: 一种 并行 光学 相干 层析 成像 设备 自动 对焦 系统 方法
【主权项】:
1.一种并行光学相干层析成像设备自动对焦方法,其特征在于,所述方法包括有:一光源产生光;将所述光分解为采样光和参考光,所述采样光照射待测样品后返回第一回光,所述参考光照射参考镜面后返回第二回光;将所述第一回光和第二回光合束成第一合成光,检测第一合成光的光学相干层析信号强度,获得第一合成光的光学相干层析信号强度峰值;将参考镜面共轭至待测样品表面作为参考成像面;将样品臂焦平面定位在所述参考成像面上,根据光学相干层析信号强度峰值确定样品臂焦平面,完成自动对焦。
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