[发明专利]一种高强度无取向硅钢薄带及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910379428.4 申请日: 2019-05-08
公开(公告)号: CN110004381B 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 程朝阳;刘静;宋新莉;付兵;贾涓;卢海龙;余春雷 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: C22C38/34 分类号: C22C38/34;C22C38/06;C22C38/04;C22C38/20;C21D8/12;C21D1/18;C21D1/26
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430081 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种高强度无取向硅钢薄带及其制备方法。其技术方案是:所述高强度无取向硅钢薄带的化学成分是:Si为3.0~3.5wt%,Al为0.5~1.0wt%,Mn为0.1~1.0wt%,Cu为1.0~2.0wt%,Cr为0.5~1.0wt%,其余为Fe和不可避免的杂质。按所述高强度无取向硅钢薄带的化学成分进行冶炼,在1400~1550℃条件下浇铸成板坯,在1100~1200℃条件下热轧至厚度为0.8~1.5mm的热轧板;再将所述热轧板进行常化处理,常化处理后在室温条件下冷轧至0.1~0.3mm,即得无取向硅钢薄带;然后将所述无取向硅钢薄带进行再结晶退火,即得高强度无取向硅钢薄带。本发明具有工艺简单和成本低的特点,所制备的高强度无取向硅钢薄带的强度大、铁损低和磁感高。
搜索关键词: 一种 强度 取向 硅钢 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种高强度无取向硅钢薄带的制备方法,其特征在于所述高强度无取向硅钢薄带的化学成分是:Si为3.0~3.5wt%,Al为0.5~1.0wt%,Mn为0.1~1.0wt%,Cu为1.0~2.0wt%,Cr为0.5~1.0wt%,其余为Fe和不可避免的杂质;所述高强度无取向硅钢薄带的制备方法是:按所述高强度无取向硅钢薄带的化学成分进行冶炼,在1400~1550℃条件下浇铸成板坯,将所述板坯在1100~1200℃条件下热轧至厚度为0.8~1.5mm的热轧板;再将所述热轧板进行常化处理,常化处理后的热轧板在室温条件下冷轧至0.1~0.3mm,即得无取向硅钢薄带;然后将所述无取向硅钢薄带进行再结晶退火,即得高强度无取向硅钢薄带。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学,未经武汉科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910379428.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top