[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

摘要

本申请涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置，彩膜基板包括基板、黑矩阵、第一光阻块、第二光阻块、第三光阻块及第四光阻块；黑矩阵设置于基板的一表面上，黑矩阵在基板上围出若干个子像素区域；第一光阻块包括依次沉积的第一光阻层、第二光阻层、第三光阻层及第四光阻层，第一光阻块设置于黑矩阵上且第一光阻块的第一光阻层与黑矩阵连接；第二光阻块包括依次沉积的第一光阻层、第二光阻层及第三光阻层；第三光阻块包括依次沉积的第一光阻层及第二光阻层；第三光阻块包括第一光阻层；第二光阻块、第三光阻块及第四光阻块分别设置于子像素区域中；第二光阻块、第三光阻块及第四光阻块的第一光阻层分别与基板连接。

主权项

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供一基板，在所述基板的一表面上形成黑矩阵材料层并对所述黑矩阵材料层进行曝光并显影，以形成黑矩阵；在所述基板形成黑矩阵的表面上依次沉积形成第一光阻层、第二光阻层、第三光阻层及第四光阻层；提供一光罩，利用所述光罩从所述基板的上方对所述第四光阻层进行曝光，其中，所述光罩包括不透光部、第一透光部、第二透光部、第三透光部及第四透光部，所述第二透光部的透光率小于所述第三透光部的透光率，所述第三透光部的透光率小于所述第四透光部的透光率，所述第一透光部的透光率大于所述第四透光部的透光率；对曝光后的第四光阻层进行显影并固化；对所述第三光阻层、所述第二光阻层及所述第一光阻层进行蚀刻，以将不位于所述第四光阻层正下方的所述第三光阻层、所述第二光阻层及所述第一光阻层去除，以形成与所述不透光部对应的第一光阻块，与所述第二透光部对应的第二光阻块，与所述第三透光部对应的第三光阻块，以及与所述第四透光部对应的第四光阻块；对所述第四光阻层进行薄化处理及对所述第四光阻块、所述第三光阻块、所述第二光阻块进行蚀刻处理，以使得所述第四光阻块包括第一光阻层，所述第三光阻块包括第一光阻层及第二光阻层，所述第二光阻块包括第一光阻层、第二光阻层及第三光阻层。