[发明专利]一种垂直面射型的激光结构及制作方法在审
申请号: | 201910366830.9 | 申请日: | 2019-05-05 |
公开(公告)号: | CN109980501A | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 彭钰仁 | 申请(专利权)人: | 厦门乾照半导体科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/024 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 361100 福建省厦门市*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供了一种垂直面射型的激光结构及制作方法,该垂直面射型的激光结构中,其出光方向为P面出光,散热方向与出光方向相反,以使散热不再通过衬底结构,有助于高效率散热;并且,P电极和N电极位于同侧,通过设置N型焊垫和所述P型焊垫,不再需要电极打线结构,进而极大程度的缩小了封装体积。 | ||
搜索关键词: | 垂直面射型 激光结构 散热 衬底结构 打线结构 方向相反 散热方向 电极 高效率 同侧 制作 封装 | ||
【主权项】:
1.一种垂直面射型的激光结构,其特征在于,所述激光结构包括:蚀刻停止层;依次设置在所述蚀刻停止层一侧的N型布拉格反射镜层、主动层、氧化层和P型布拉格反射镜层;贯穿所述P型布拉格反射镜层、所述氧化层和所述主动层的至少一个第一凹槽,以形成至少一个第一台柱结构,其中,位于所述第一台柱结构区域内的所述氧化层的中心区域为未氧化区域;覆盖所述P型布拉格反射镜层以及所述第一凹槽的底部和侧壁的保护层;贯穿位于所述第一台柱结构表面上所述保护层的第二凹槽,以形成第二台柱结构,其中,所述第二台柱结构在垂直于所述蚀刻停止层的方向上覆盖所述未氧化区域;覆盖所述保护层以及所述第二凹槽的底部和侧壁的P型电极,且部分覆盖所述第二台柱结构;覆盖所述P型电极和所述第二台柱结构的透明键合层;设置在所述透明键合层背离所述P型电极一侧的透明载体;贯穿所述蚀刻停止层的第一电极凹槽;填充所述第一电极凹槽的N型电极;与所述N型电极接触的N型焊垫,与所述P型电极接触的P型焊垫,且所述N型焊垫和所述P型焊垫位于同一侧。
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