[发明专利]一种基于改进枝切法的激光散斑相位解包裹方法有效

专利信息
申请号: 201910351261.0 申请日: 2019-04-28
公开(公告)号: CN110108200B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 周勇;邵珩;聂中原;祁俊峰 申请(专利权)人: 北京卫星制造厂有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 张晓飞
地址: 100190*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种基于改进枝切法的激光散斑相位解包裹方法,步骤为:1)输入激光散斑干涉相位图,求解出激光散斑干涉相位图中的所有残差点;2)根据受力公式求出当前每个残差点受到外界的电磁力,同时设定电磁力的阈值;3)计算所受电磁力大于阈值的残差点所在邻域内的明暗分界线方向;4)通过上述明暗分界线方向和电磁力方向关系,依次对所受电磁力大于阈值的残差点所在邻域进行“缝合”或“撕裂”处理,使得电性相反的残差点不断靠近或重合消失,生成处理后的激光散斑干涉相位图;5)重复步骤1)、2)、3)、4),直到所有残差点都消失或所受电磁力都小于等于阈值时结束;6)根据现存残点设置枝切线;7)沿枝切线标识的路径进行图像解包裹,得到激光散斑干涉相位解包裹图。
搜索关键词: 一种 基于 改进 枝切法 激光 相位 包裹 方法
【主权项】:
1.一种基于改进枝切法的激光散斑相位解包裹方法,其特征在于包括如下步骤:1)输入激光散斑干涉相位图,求解出激光散斑干涉相位图中的所有残差点;2)将残差点当作带着正负单位电量的“电子”,将激光散斑干涉相位图图片区域当作电磁力场,根据受力公式求出当前每个残差点受到外界的电磁力,同时设定电磁力的阈值;3)计算所受电磁力大于阈值的残差点所在邻域内的明暗分界线方向;4)通过上述明暗分界线方向和电磁力方向关系,依次对所受电磁力大于阈值的残差点所在邻域进行“缝合”或“撕裂”处理,使得电性相反的残差点不断靠近或重合消失,生成处理后的激光散斑干涉相位图;5)当所受电磁力大于阈值的残差点存在时,重复步骤1)、2)、3)、4),直到所有残差点都消失或所受电磁力都小于等于阈值时结束;6)根据现存残点设置枝切线;7)沿枝切线标识的路径进行图像解包裹,得到激光散斑干涉相位解包裹图。
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