[发明专利]一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910342984.4 申请日: 2019-04-26
公开(公告)号: CN109873297B 公开(公告)日: 2020-06-30
发明(设计)人: 张宇;魏斌 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187
代理公司: 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 代理人: 赵龙群
地址: 250199 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种GaN基垂直腔面发射激光器及其制备方法,属于光电子领域,包括导电衬底,导电衬底上制作有金属层,金属层上窗口处制作有介质DBR层,介质DBR层上制作有透明导电层,透明导电层上依次制作有p型半导体层、多量子阱有源层和n型半导体层,n型半导体层上表面生长制备有多孔导电DBR层,多孔导电DBR层上表面制作有绝缘介质层,绝缘介质层覆盖多孔导电DBR层、n型半导体层、多量子阱有源层、p型半导体层以及透明导电层,绝缘介质层上表面制作有n电极。本发明通过金属键合技术将外延结构转移到导电性较好的衬底上,并采用电化学腐蚀形成多孔GaN导电DBR结构,增加器件可工作的电流密度,提高光电性能。
搜索关键词: 一种 gan 垂直 发射 激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种GaN基垂直腔面发射激光器,其特征在于,包括导电衬底,所述导电衬底上表面制作有金属层,金属层的上表面中间设置有窗口,所述金属层上表面中间部分窗口处制作有介质DBR层,所述介质DBR层上表面制作有透明导电层,所述透明导电层覆盖介质DBR层和金属层;所述透明导电层上表面依次制作有p型半导体层、多量子阱有源层和n型半导体层,所述n型半导体层上表面生长制备有多孔导电DBR层,所述多孔导电DBR层上表面制作有绝缘介质层,且绝缘介质层的中间形成电流窗口,所述绝缘介质层覆盖多孔导电DBR层、n型半导体层、多量子阱有源层、p型半导体层以及透明导电层,所述绝缘介质层上表面制作有n电极,所述n电极覆盖部分多孔导电DBR层和部分绝缘介质层。
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